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華為三星達成和解 專利糾紛落下帷幕
2019-03-09 12:59
彭博社3月7日報道，美國商標局下屬知識產權庭表示華為與三星電子已同意就雙方之間一場歷時近三年的專利糾紛達成和解。
據(jù)悉，華為與三星于5日向知識產權庭申請要求進入終結程序，雙方對于信息交換程序和手機通信網(wǎng)絡維持方式等專利紛爭也正式落幕。
華為與三星于2月25日同意達成和解，為此向法庭申請30天中止期，以便雙方在此期間達成最終和解協(xié)議。不過，兩家公司向法庭提交的文件并未透露雙方同意和解的具體原因。按照知識產權庭的原則，雙方達成協(xié)議的內容也不會對外公開。
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